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真空漏閥是一種在真空系統中用于控制氣體流動的裝置，通常用于限制氣體從真空系統中泄漏出去的速率，從而保持真空度。

真空系統中的漏閥通常是一種單向閥門，可以讓氣體從真空系統中流出，但不允許氣體流入。漏閥通常包括一個或多個可調節(jié)的孔或開口，允許氣體從真空系統中漏出，而不會讓大氣壓力進入系統中。漏閥的大小和數量可以根據需要進行選擇，以滿足真空系統的特定需求。

真空漏閥通常用于實驗室和工業(yè)應用中，例如真空熱處理、真空鍍膜、半導體生產等領域。在這些應用中，保持適當的真空度是非常重要的，而漏閥則是實現這一目標的關鍵組件之一。

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